英特爾成為首家使用High NA EUV量產的晶片製造商
位於俄勒岡州希爾斯伯勒的工廠在該設備上對部分英特爾18A晶片層完成了雙重驗證，良率已追平舊款NXE平台。
- 2024年，ASML在英特爾俄勒岡州希爾斯伯勒工廠安裝了其首台商用High NA EUV系統。
- 英特爾是全球首家安裝並成功通過ASML新型TWINSCAN EXE:5200B設備測試的公司。
- 執行長克里斯托夫·富凱稱這是整個業界在「半導體微影技術上的重大發展」。
為什麼重要: 如今，由一家公司出售的單一設備，決定了誰能製造出最快的晶片。
ASML press release ↗ · 2026年7月15日26/7/15 · ✓ 已查證✓