인텔, 업계 최초로 High NA EUV 양산 체제 돌입
오리건주 힐스버러 공장은 이 장비로 일부 인텔 18A 칩 레이어의 이중 검증을 마쳤으며, 구형 NXE 플랫폼과 동일한 수율을 달성했다.
- ASML은 2024년 인텔의 오리건주 힐스버러 공장에 자사 최초의 상용 High NA EUV 시스템을 설치했다.
- 인텔은 ASML의 최신 트윈스캔 EXE:5200B (TWINSCAN EXE:5200B) 장비를 전 세계에서 가장 먼저 도입하고 테스트를 통과했다.
- 크리스토프 푸케 CEO는 이를 업계를 위한 '반도체 노광 기술의 중대한 발전'이라고 평가했다.
왜 중요한가: 단일 기업이 독점 판매하는 단 하나의 장비가 이제 누가 가장 빠른 칩을 만들지 결정하게 되었다.
ASML press release ↗ · 2026년 7월 15일26. 7. 15. · ✓ 확인✓